삼성전자, 1나노 양산에 고NA EUV 투입 로드맵 공개
삼성전자가 1나노 공정 대량생산에 고개구율 극자외선(고NA EUV) 노광 기술을 투입하는 로드맵을 공개했다.
블록비츠(BlockBeats)는 삼성전자가 공개한 차세대 노광 기술 로드맵에 이 같은 계획이 담겼다고 전했다.
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