삼성전자, 1나노급 공정서 하이 NA EUV 상용화 추진
과창판일보에 따르면 삼성전자는 1나노급 공정 노드에서 하이 NA EUV 장비를 상용화하는 방안을 추진하고 있다.
박창민 삼성전자 파운드리 공정개발 담당은 2나노 SF2와 1.4나노 SF1.4 등 가까운 공정 노드에서는 하이 NA EUV 리소그래피 패터닝 기술이 아직 성숙하지 않았다고 밝혔다.
삼성전자는 1나노급 공정에서 더 높은 패터닝 해상도가 필요할 것으로 보고 파트너사와 공동 연구개발을 진행 중이다. 앞서 삼성 파운드리는 2029년 SF1.4 양산, 2030년 개선형 SF1.4+ 출시 계획을 제시한 바 있다.
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