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삼성전자, 1나노급 공정서 하이 NA EUV 상용화 추진

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 삼성전자, 1나노급 공정서 하이 NA EUV 상용화 추진

과창판일보에 따르면 삼성전자는 1나노급 공정 노드에서 하이 NA EUV 장비를 상용화하는 방안을 추진하고 있다.

박창민 삼성전자 파운드리 공정개발 담당은 2나노 SF2와 1.4나노 SF1.4 등 가까운 공정 노드에서는 하이 NA EUV 리소그래피 패터닝 기술이 아직 성숙하지 않았다고 밝혔다.

삼성전자는 1나노급 공정에서 더 높은 패터닝 해상도가 필요할 것으로 보고 파트너사와 공동 연구개발을 진행 중이다. 앞서 삼성 파운드리는 2029년 SF1.4 양산, 2030년 개선형 SF1.4+ 출시 계획을 제시한 바 있다.

본 기사는 시장 데이터 및 차트 분석을 바탕으로 작성되었으며, 특정 종목에 대한 투자 권유가 아닙니다.

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